概述:本机是根据适应晶片生产企业设计的一款高性能晶片腐蚀清洗设备，双槽式设计，外壳采用PP材料。

主要特点：带有上下左右抖动给功能，能有效充分的腐蚀晶片。

          腐蚀槽采用进口PP板

          自动补液，自动放液，减少人为操作。

          水冲洗槽采用循环水，自动溢流，节约水源。

          可采用全自动方式，也可采用手动控制方式。