广州克思曼研磨科技有限公司 

经过严格的粒径控制和专业的加工工艺。

经过严格的粒径控制和专业的加工工艺。

该产品抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。

产品特点：

1.悬浮 分散性好、

2.粒径分布广泛：30-120nm。

3.高纯度(Cu2+含量小于50 ppb)，有效减小对电子类产品的沾污。

4.经特殊工艺合成的化学机械抛光液，纳米颗粒呈球形，单分散，大小均匀，粒径分布窄，可获得高质量的抛光精度。

5.适合与各种抛光垫、合成材料配合抛光使用。

6.PH、粒径、稳定离子等可以根据客户定制(30-120 nm)

抛光过程中具有：

1.高抛光速率，利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的。（可以生产120 nm）。

2.高平坦度加工，本品抛光是利用SiO2的胶体粒子，不会对加工件造成物理损伤，达到高平坦化加工。

抛光过程后具有：

1.精度可以达到埃级

2.划伤和挖伤可以达到0/0

产品参数

使用方法：

1.可根据抛光操作条件用去离子水进行1：1倍稀释。

2循环抛光可以用原液。

储存方法：

1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃

2.低于0℃以上储存，防止结冰，在零度以下因产生不可再分散结块而失效。

3.避免敞口长期与空气接触。

价格实惠：

克思曼的生产技术，是引进国外生产技术，其品质可以媲美进口的产品,但克思曼产品价格比进口便宜，有效的避免了进口产品其交货周期长，价格昂贵。