金属溅射靶材

中诺新材定制加工不同尺寸，不同纯度的靶材，产品具备纯度高。结构致密，晶粒度小的特点，满足客户对高品质靶材的需求。

高纯金属靶材，纯度99.9-99.9999%。可提供圆靶，矩形靶，管靶等。

常规金属靶材Al，Cu，Ti，Ni，Co，V，W，Mo，Ta，Ni

金属靶材Ag Au Pt Pd Ru Rh Ir

稀土金属靶材La Ce Pr Nd Sm Eu Gd Tb Dy Ho Er Tm Yb Lu

非金属靶材B C Si Ge Se Te

合金靶材Ni-Cr Ni-V Ni-Ti W-Ti Ti-Al Cr-Al NiCrAlY……

以上产品纯度99.9-99.9999%。可提供圆靶，矩形靶，管靶等。

贵金属靶材尺寸

金、银、铂、钯溅射靶材通过熔炼提纯、浇铸成锭，锻造轧制和精密机加工制造而成。纯度均可达到99.99%，主要应用于电子半导体、太阳能光伏、平面显示、磁学等行业。

钌、铑、铱溅射靶材采用高纯金属粉末为原料，通过粉末冶金铸锭，并精密机加工成靶，产品纯度可达99.95%。主要应用于电子半导体、磁学等行业。

常规靶材有：

高纯金 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高纯银 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高纯铂 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高纯钯 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高纯钌 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高纯铑 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高纯铱 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

常规厚度1-6mm

可定制加工的圆靶方靶，可提供靶材绑定服务。

中诺新材拥有真空感应熔炼炉、悬浮熔炼炉等多种专业生产设备，可提供各种常规高纯金属及合金。我公司采用先进的锻造及热处理工艺，实现对靶材晶粒度的控制，并通过精密的机械加工工艺，制备出纯度高、晶粒细小、组织均匀的高品质靶材。

常规产品如下：

商品名称纯度(%)常规尺寸

高纯铝 靶材99.999  99.9995

高纯钛 靶材99.995

高纯钴 靶材99.95

高纯铁 靶材99.95  99.99

高纯铟 靶材99.995

高纯锡 靶材99.99

高纯锆 靶材99.5  99.9

高纯铪 靶材99.95

高纯钒 靶材99.95

常规现货靶材尺寸：φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

靶材常规厚度2-6mm  可定制加工不同尺寸的圆靶、方靶