处理气量：（1-200）Nm3/h
压力：≤1.0Mpa
氩气纯度：≥99.999％ 
露点：≤-70℃

含氧量：≤1.5ppm

含氢量：≤0.5ppm

含氮量：≤4ppm

ΣCH≤1ppm

广泛应用于：

熔硅单晶炉配套使用，激光器、溅射、半导体生产，气相色谱仪、特殊灯泡稀有金属加工等需要用高纯氩气的有关科研和生产部门。

高纯氩气纯化设备

      原料气可以是液氩，瓶装氩气等，针对原料氩气的成分不同，可定制多种净化方案。提纯过程有催化脱氧、冷却冷凝、吸附脱水、深度净化炉等工艺，保证客户的不同需求。

技术特点
采用净化炉脱除杂质气体，效果可达产品气纯度99.999%。

采用优质分子筛，产品氧气含湿量≤-70℃露点。
采用高效烧结过滤器，除尘后分子粒度≤0.1μm。
纯化工作气体压力范围0.2-5.0MPa，并能适用于压力波动气体。
原料气采用先进工作流程，温度控制安全可靠。
安装方便，结构紧凑，维修简单。