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日本Savina ck无尘布超细纤维无尘布Savina mx无尘擦拭布minimax无尘布
Savina ck用于轻松应对时代的需求,同时具备足以应对要求高的洁净室中的极,限无尘条件的出色功能.是日本KBSEIREN株式会社(原KANEBO)开发的目前较高级的无尘擦拭布系列产品,吸水吸油性极,强,不磨损原件。广泛用于光学镜头制造,办公器材保养,10级以上的无尘车间净化室,半导体生产线车间等领域。高科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言,高效擦拭布是必备要素。Savina CK能够轻松满足时代需求,具有出色的功能,足以应对超,级无尘室中的极,端无尘条件。
无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备,同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。Savina CK具备此类擦拭布所需的所有属性,是性能较好的擦拭布之一,专为高科技时代而设计。
Savina CK在专门的细针距针织机上编制而成,其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理,就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700 c㎡/g,从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g
特点是:掉毛量极少。• 迅速而积极地吸收并留住水分。• 残留离子和其他物质的溶解率较低。• 具备高端的擦拭布性能(灰尘清除量较大,同时不会污染无尘室设备)。
用途:光磁盘、硬盘和软盘的生产过程• 液晶偏转板以及其他物品的生产过程• 光盘和磁盘的生产过程• 录像机的生产过程• 隐形眼镜的生产过程• 相机装配线• 印刷电路板的清洁工艺• 相机镜头镀膜前的清洁工艺• 药品生产线清洁工艺• 电影胶片清洁工艺• 半导体和基础电路的生产过程• 精密涂层之前工件的清洁过程
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