数字无掩膜光刻机-dmd式无掩膜光刻机-鑫南光-快速-优质-优价
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主要构成
主要由对准工作台、双目分离视场CCD显微显示系统、LED曝光头、PLC电控系统、气动系统、真空管路系统、直联式真空泵、二级防震工作台和附件箱等组成。
主要技术指标:
1、曝光类型:单面;配置4"LED用曝光头
2、曝光面积:110×110mm;
3、曝光照度不均匀性:≤±3%;
4、曝光强度:0~30mw/cm2可调;
5、紫外光束角:≤3?0?8;
6、紫外光中心波长:365nm;
7、紫外光源时间:≥2万小时;
8、采用电子快门;
9、曝光分辨率:1μm
10、显微镜扫描范围:X: ±15mm Y:±15mm;
11、对准范围:X、Y 调节 ±4mm;Q向调节±3°;
12、套刻精度:1μm;
13、分离量;0~50μm可调;
14、曝光方式:接触式曝光,可实现硬接触、软接触和微力接触曝光;
15、找平方式:气浮找平;
16、掩模版尺寸:≤127×127mm;
17、基片尺寸:≤Φ102mm(或者102×102mm);
18、基片厚度:≤5 mm;
19、曝光定时:0~999.9秒可调;
联 系 人:刘先生/康先生/左先生
移动电话:139-0818-7709(刘总)
177-1362-6490(康经理)
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