EVG光刻机-EVG 620/610/6200NT 光刻系统

       技术指标：

       晶圆/基板尺寸达150 mm / 6''

       系统设计支持光刻工艺的多功能性

       易碎，薄或翘曲的多种尺寸的晶圆处理，更换时间短

       带有间隔垫片的自动无接触楔形补偿序列

       自动原点功能，用于对准键居中

       具有实时偏移校正功能的动态对准功能

       支持UV-LED技术

       自动化系统上的手动基板装载功能

       可以从半自动版本升级到全自动版本

       系统占地面积小

       多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

       软件功能以及研发与全 面生产之间的兼容性

       便捷处理和转换重组

       远程技术支持和SECS / GEM兼容性

      曝光源：汞光源/紫外线LED光源

      对准功能：手动对准/原位对准验证

       自动对准：动态对准/自动边缘对准，对准偏移校正算法

       EVG620 NT产能：

       全自动：第 一批生产量：每小时180片

       全自动：吞吐量对准：每小时140片晶圆

       晶圆直径（基板尺寸）：高达150毫米

       对准方式：

       上侧对准：≤±0.5 µm

       底侧对准：≤±1,0 µm

       红外校准：≤±2,0 µm /具体取决于基材

       键对准：≤±2,0 µm

       NIL对准：≤±3.0 µm

       曝光设定： 真空接触/硬接触/软接触/接近模式/弯曲模式

      楔形补偿：全自动软件控制