用途

• 光学镀膜表征和设计
• 半导体器件开发
• CIGS 和高级材料研究
• 高端电子显微镜样品制备
• 质量保证
• 故障分析

优势

Explorer凭借灵活的腔室尺寸可以容纳8英寸大的基片。溅射配置适合直流、脉冲直流和射频溅射，并具备共聚焦溅射能力。可以选择PEM技术，该技术是针对金属氧化物和氮化物过渡模式下高速反应溅射的闭环控制系统。

我们提供多种抽真空配置—扩散泵、冷泵和涡轮泵—泵可安装在设备后部或底部来满足工艺需求，并提供快速抽气能力满足高产能需求。

Integrity薄膜沉积解决方案

电子束和热蒸发

对于大批量生产，Integrity系统是正确的选择。该系统配置用于高要求的光学镀膜、半导体和化合物半导体应用。该解决方案提供高产量、应力控制、高沉积速率、PID控制、最佳粒度和薄膜结晶学。丹顿公司提供预先配置的特定应用工具，可以满足苛刻的过程要求。