标定掩膜板 溅射叉指掩膜版生产加工
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标定掩膜板-溅射叉指掩膜版生产加工

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商品参数
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材质 不锈钢、镍、钼
材质厚度 0.05-3mm
加工精度 ±20um
加工面积 300*300mm
服务区域 全国不锈钢、镍、钼
商品介绍


标定掩膜板 溅射叉指掩膜版生产加工

金属MASK的精密度:0.001MM至0.08MM,误差正负0.001MM,小线宽0.025mm
华诺恒宇公司   可做的金属MASK厚度有以下几种:0.01,0.025,0.03,0.038,0.04,0.05,0.075,0.08,0.1,0.25,0.3,0.5,0.75,0.1,1.5mm
主营产品
 精密金属片、无连接点LOGO、无连接点精密垫片、精密喇叭网、打印机电、金属码盘、贴膜垫片、贴膜钢片、贴膜不锈钢片、掩模板、光栅片、过滤网、防尘网、铝材工艺品、不锈钢工艺品、精密弹片、打印机配件、引线框架、银行柜员机配件等激光精密切割产品生产及销售


专注于生产精密五金、IT产品配件、打印机配件、汽车配件、电器配件及工艺品产品的加工,公司产品取得了客户的一致认可, 如:联想、华为、中兴、BYD、富士康、美泰、东芝、TCL、格力、美的、飞利浦等大客户的认可。
光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。

光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask Reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得,常用加工设备为直写式光刻设备,如激光直写光刻机、电子束光刻机等。
掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。


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