金属溅射靶材

中诺新材定制加工不同尺寸，不同纯度的靶材，产品具备纯度高。结构致密，晶粒度小的特点，满足客户对高品质靶材的需求。

高纯金属靶材，纯度99.9-99.9999%。可提供圆靶，矩形靶，管靶等。

常规金属靶材Al，Cu，Ti，Ni，Co，V，W，Mo，Ta，Ni

金属靶材Ag Au Pt Pd Ru Rh Ir

稀土金属靶材La Ce Pr Nd Sm Eu Gd Tb Dy Ho Er Tm Yb Lu

非金属靶材B C Si Ge Se Te

合金靶材Ni-Cr Ni-V Ni-Ti W-Ti Ti-Al Cr-Al NiCrAlY……

以上产品纯度99.9-99.9999%。可提供圆靶，矩形靶，管靶等。

贵金属靶材尺寸

金、银、铂、钯溅射靶材通过熔炼提纯、浇铸成锭，锻造轧制和精密机加工制造而成。纯度均可达到99.99%，主要应用于电子半导体、太阳能光伏、平面显示、磁学等行业。

钌、铑、铱溅射靶材采用高纯金属粉末为原料，通过粉末冶金铸锭，并精密机加工成靶，产品纯度可达99.95%。主要应用于电子半导体、磁学等行业。

常规靶材有：

高纯金 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高纯银 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高纯铂 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高纯钯 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高纯钌 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高纯铑 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高纯铱 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

常规厚度1-6mm

可定制加工的圆靶方靶，可提供靶材绑定服务。

质量管控1

一、全部运行电脑信息化管理系统

      可以随时查询产品状态，生产环节，可通过LOT NO查询到材料编码，材料形态，材料位置，使用设备，操作人员，相关数据，加工时间，经过步骤等。

二、操作规程符合ISO9001国际质量体系的要求

公司实行科学严格的管理制度，生产工艺和操作规程，从产品的研发、生产和销售、服务各个环节都严格确保符合ISO9001国际质量体系的要求。