性 状：    以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点，适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。    

质量标准：    注意事项：
1． 使用前请先摇匀；
2． 使用时，可用少量的水加以稀释。

应用范围：
1、硅晶圆片抛光;锗片抛光;砷化镓抛光;磷化铟抛光;光学晶体抛光;蓝宝石衬底抛光;
2、LED衬底抛光;硒化锌抛光;光纤连接器抛光;光纤跳线抛光;玻璃抛光;石英抛光；

贮 存：    本品需在0 ℃以上储存，防止结冰，在0 ℃以下因产生不可再分散结块而失效。    

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